Көтерме NiCrCu Sputtering Target жоғары тазалықтағы жұқа пленка Pvd жабыны тапсырыс бойынша жасалған өндіруші және жеткізуші |Бай

Никель хром мыс

NiCrCu шашырау нысанасы Тазалығы жоғары жұқа пленка Pvd жабыны Арнайы жасалған Таңдаулы кескін

Қысқаша сипаттама:

Санат	Қорытпаны шашырату нысанасы
Химиялық формула	NiCrCu
Құрамы	Никель хром мыс
Тазалық	99,5%，99,7%，99,9%，99,99%
Пішін	Пластиналар，бағандық мақсаттар，доғалық катодтар， тапсырыс бойынша жасалған
Өндіріс процесі	Вакуумды балқыту
Қол жетімді өлшем	L≤2000мм, В≤350мм

Бізге электрондық поштаны жіберіңіз

Өнімнің егжей-тегжейі

Өнім тегтері

NiCrCu Sputtering мақсаты никель хром мысының шикізатын балқыту және құю арқылы өндіріледі.Ол жоғары кедергіге, төмен температура коэффициентіне және жоғары сезімталдыққа ие.Никель мен хромның беттік энергиясы ұқсас, ал NiCrCu жұқа қабықша шөгіндісінің құрамы шашырату мақсатына ұқсас, сондықтан тұндыру нәтижесін бақылау оңай.

Rich Special Materials компаниясы шашыратқыш мақсатты өндіруге маманданған және тұтынушылардың ерекшеліктеріне сәйкес никель хромды мыс шашатын материалдарды шығара алады.Қосымша ақпарат алу үшін бізге хабарласыңыз.

Алдыңғы: NiCrAlY Sputtering Мақсаты Тазалығы жоғары жұқа пленка Pvd жабыны тапсырыс бойынша жасалған

Келесі: NiAl Sputtering Мақсаты Тазалығы жоғары жұқа пленка Pvd жабыны тапсырыс бойынша жасалған