Соңғы жылдары интегралдық микросхемалар (IC) технологиясының дамуымен интегралдық микросхемалардың тиісті қосымшалары қарқынды дамыды.Ультра жоғары тазалықтағы алюминий қорытпасының шашырау нысаны интегралды схемалық металл қосқыштарын өндіруде тірек материал ретінде соңғы отандық зерттеулердің өзекті тақырыбына айналды.RSM редакторы бізге жоғары тазалықтағы алюминий қорытпасының шашырау нысанының сипаттамаларын көрсетеді.
Магнетронды шашырату нысанасының тозаңдату тиімділігін одан әрі жақсарту және тұндырылған пленкалардың сапасын қамтамасыз ету үшін көптеген тәжірибелер өте жоғары таза алюминий қорытпасының шашыратқыш нысанының құрамына, микроқұрылымына және дәннің бағытына белгілі бір талаптардың бар екенін көрсетеді.
Нысананың дән мөлшері мен түйір бағыты IC қабықшаларының дайындалуына және қасиеттеріне үлкен әсер етеді.Нәтижелер астық мөлшерінің ұлғаюымен тұндыру жылдамдығы төмендейтінін көрсетеді;Құрамы бірдей бүріккіш нысана үшін түйіршіктері аз нысананың шашырату жылдамдығы үлкен түйіршікті нысанаға қарағанда жылдамырақ болады;Нысананың түйір өлшемі неғұрлым біркелкі болса, соғұрлым тұндырылған пленкалардың қалыңдығының таралуы біркелкі болады.
Бірдей тозаңдату құралы мен процесс параметрлері кезінде Al Cu қорытпасының мақсатты шашырау жылдамдығы атомдық тығыздықтың жоғарылауымен артады, бірақ ол әдетте ауқымда тұрақты.Астық мөлшерінің бүрку жылдамдығына әсері дән мөлшерінің өзгеруімен атомдық тығыздықтың өзгеруіне байланысты;Тұндыру жылдамдығына негізінен Al Cu қорытпасының мақсатты дәнінің бағыты әсер етеді.(200) кристалдық жазықтықтардың үлесін қамтамасыз ету негізінде (111), (220) және (311) кристалдық жазықтықтардың үлесін арттыру тұндыру жылдамдығын арттырады.
Өте жоғары таза алюминий қорытпасының нысаналарының дән мөлшері мен дәннің бағыты негізінен құйманы гомогенизациялау, ыстық өңдеу және қайта кристалдану жасыту арқылы реттеледі және бақыланады.Вафли өлшемі 20,32 см (8 дюйм) және 30,48 см (12 дюйм) дейін дамып, мақсатты өлшем де артып келеді, бұл өте жоғары таза алюминий қорытпасынан шашырату нысандарына жоғары талаптар қояды.Пленка сапасы мен шығымдылығын қамтамасыз ету үшін мақсатты микроқұрылымды біркелкі ету үшін мақсатты өңдеу параметрлерін қатаң бақылау керек және дәннің бағыты күшті (200) және (220) жазық текстураларға ие болуы керек.
Жіберу уақыты: 30 маусым-2022 ж