Баршамызға белгілі, вакуумдық жабындыда жиі қолданылатын әдістер вакуумды транспирация және ионды шашырату болып табылады.Транспирациялық жабын мен шашыратқыш жабынның айырмашылығы недеадамдар осындай сұрақтар бар.Транспирациялық жабын мен шашыратқыш жабын арасындағы айырмашылықты сіздермен бөлісейік
Вакуумдық транспирациялық пленка – бұл молекулалардың термиялық тербеліс энергиясы болатындай етіп вакуумдық дәрежесі 10-2Па кем емес ортада қарсылық қыздыру немесе электронды сәуле және лазерлік қабықша арқылы транспирацияланатын деректерді белгіленген температураға дейін қыздыру. деректердегі атомдар беттің байланыс энергиясынан асып түседі, сондықтан көптеген молекулалар немесе атомдар транспирацияланады немесе ұлғаяды және пленка түзу үшін оларды тікелей субстратқа орналастырады.Ионды шашыратқыш жабын нысанды катод ретінде бомбалау үшін электр өрісінің әсерінен газ разряды арқылы түзілетін оң иондардың жоғары қарсылық қозғалысын пайдаланады, осылайша нысандағы атомдар немесе молекулалар қашып, қапталған дайындаманың бетіне жиналып қалады. қажетті фильм.
Вакуумдық транспирациялық жабынның ең жиі қолданылатын әдісі - қарсылық қыздыру әдісі.Оның артықшылығы - жылу көзінің қарапайым құрылымы, төмен құны және ыңғайлы жұмысы.Оның кемшіліктері балқитын металдар мен жоғары температураға төзімді орталарға жарамсыз.Электрондық сәулелік қыздыру және лазерлік қыздыру қарсылық қыздырудың кемшіліктерін жеңе алады.Электрондық сәулелік қыздыру кезінде фокусталған электрон сәулесі қабықталған деректерді тікелей қыздыру үшін пайдаланылады, ал электронды сәуленің кинетикалық энергиясы деректер транспирациясын жасау үшін жылу энергиясына айналады.Лазерлік қыздыру қыздыру көзі ретінде жоғары қуатты лазерді пайдаланады, бірақ жоғары қуатты лазердің құны жоғары болғандықтан, оны тек аз ғана ғылыми зертханаларда қолдануға болады.
Шашырату дағдысы вакуумды транспирациялау дағдысынан ерекшеленеді.Шашырату деп зарядталған бөлшектердің дененің бетіне (нысанына) қайта бомбалауы, осылайша қатты атомдар немесе молекулалар бетінен шығарылатын құбылысты айтады.Шығарылатын бөлшектердің көпшілігі атомдық болып табылады, олар көбінесе шашыраған атомдар деп аталады.Нысаналарды атқылау үшін қолданылатын шашыраған бөлшектер электрондар, иондар немесе бейтарап бөлшектер болуы мүмкін.Электр өрісі астында иондар қажетті кинетикалық энергияны алу оңай болғандықтан, иондар көбінесе қабықша бөлшектері ретінде таңдалады.
Шашырату процесі жарқырау разрядына негізделген, яғни шашыратқыш иондар газ разрядынан пайда болады.Әртүрлі шашырату дағдыларында жарқырауды шығару әдістері әртүрлі.Тұрақты ток диодын шашырату тұрақты ток жарқырауын пайдаланады;Триодты шашырату - ыстық катодпен қамтамасыз етілген жарқырау разряды;РЖ шашырату RF жарқырауын пайдаланады;Магнетронның шашырауы – сақиналы магнит өрісімен басқарылатын жарқырау разряды.
Вакуумды транспирациялық жабынмен салыстырғанда, шашыратқыш жабынның көптеген артықшылықтары бар.Кез келген зат, әсіресе балқу температурасы жоғары және бу қысымы төмен элементтер мен қосылыстар шашырауы мүмкін болса;Шашыратылған пленка мен субстрат арасындағы адгезия жақсы;Жоғары пленка тығыздығы;Пленка қалыңдығын басқаруға болады және қайталану мүмкіндігі жақсы.Кемшілігі - жабдық күрделі және жоғары вольтты құрылғыларды қажет етеді.
Сонымен қатар, транспирация әдісі мен шашырату әдісінің комбинациясы ионды қаптау болып табылады.Бұл әдістің артықшылығы - пленка мен субстрат арасындағы күшті адгезия, жоғары тұндыру жылдамдығы және пленканың жоғары тығыздығы.
Жіберу уақыты: 09 мамыр 2022 ж