Жұқа пленкалы транзисторлы сұйық кристалды дисплей панельдері қазіргі уақытта жалпақ панельді дисплейдің негізгі технологиясы болып табылады, ал металды шашырату нысандары өндіріс процесіндегі ең маңызды материалдардың бірі болып табылады.Қазіргі уақытта Қытайдағы негізгі СКД панельдерін өндіру желілерінде қолданылатын металды шашырату нысандарына сұраныс нысананың төрт түрі үшін ең жоғары: алюминий, мыс, молибден және молибден ниобий қорытпасы.Тегіс дисплей индустриясында металды шашырату мақсаттарына нарықтық сұраныспен таныстыруға рұқсат етіңіз.
1、 Алюминий нысанасы
Қазіргі уақытта отандық сұйық кристалды дисплей өнеркәсібінде қолданылатын алюминий мақсаттары негізінен жапондық кәсіпорындарда басым.
2、 Мыс нысанасы
Шашырату технологиясының даму тенденциясы тұрғысынан мыс нысанасына сұраныс үлесі бірте-бірте өсуде.Сонымен қатар, соңғы жылдары отандық сұйық кристалды дисплей индустриясының нарық көлемі үздіксіз кеңейіп келеді.Сондықтан жалпақ панельді дисплей индустриясында мыс нысанасына сұраныс өсу үрдісін жалғастырады.
3、 Кең ауқымды молибден нысанасы
Шетелдік кәсіпорындар бойынша: Панши және Шитайке сияқты шетелдік кәсіпорындар негізінен ішкі молибденнің мақсатты нарығын монополиялайды.Отандық өндіріс: 2018 жылдың аяғында сұйық кристалды дисплей панельдерін өндіруде отандық өндірілген молибденнің кең ауқымды мақсаттары қолданылды.
4、 Молибден ниобий 10 қорытпасының нысанасы
Молибден ниобий 10 қорытпасы, жұқа пленкалы транзисторлардың диффузиялық тосқауыл қабатында молибден алюминий молибденінің маңызды алмастырғыш материалы ретінде перспективалы нарық сұранысына ие.Бірақ молибден мен ниобий атомдары арасындағы өзара диффузия коэффициентінің айтарлықтай айырмашылығына байланысты жоғары температурада агломерациядан кейін ниобий бөлшектерінің орнында үлкен кеуектер пайда болады, бұл агломерация тығыздығын жақсартуды қиындатады.Сонымен қатар, күшті қатты ерітіндінің нығаюы молибден мен ниобий атомдарының толық диффузиясынан кейін қалыптасады, бұл олардың илемдеу көрсеткіштерінің нашарлауына әкеледі.Дегенмен, көптеген тәжірибелер мен жетістіктерден кейін ол 2017 жылы 1000 × A Mo Nb-ден аз оттегінің тығыздығы 99,3% қорытпасының мақсатты дайындамасымен сәтті шығарылды.
Хабарлама уақыты: 18 мамыр 2023 ж