Жоғары температураның тұрақтылығына, жоғары электронды миграцияға төзімділігіне және отқа төзімді вольфрам және вольфрам қорытпаларының жоғары электронды эмиссиялық коэффициентіне байланысты жоғары тазалықтағы вольфрам және вольфрам қорытпаларының нысаналары негізінен жартылай өткізгіштің қақпалық электродтарын, қосылу сымдарын, диффузиялық тосқауыл қабаттарын және т.б. интегралдық схемалар, және материалдардың тазалығына, қоспа элементтерінің құрамына, тығыздығына, түйіршіктерінің өлшеміне және дән құрылымының біркелкілігіне жоғары талаптар қояды.Енді жоғары таза вольфрам нысанасын дайындауға әсер ететін факторларды қарастырайық.
1, агломерация температурасының әсері
Вольфрамды мақсатты эмбрионды қалыптастыру процесі әдетте суық изостатикалық престеу арқылы жасалады.Вольфрам дәні агломерация процесінде өседі.Вольфрам дәнінің өсуі астық шекаралары арасындағы алшақтықты толтырады, осылайша вольфрам нысанасының тығыздығын жақсартады.Агломерация уақытының ұлғаюымен вольфрамның мақсатты тығыздығының артуы бірте-бірте баяулайды.Негізгі себебі, бірнеше рет агломерациядан кейін вольфрам нысанасының сапасы айтарлықтай өзгерген жоқ.Астық шекарасындағы бос орындардың көпшілігі вольфрам кристалдарымен толтырылғандықтан, әрбір агломерациядан кейін вольфрам нысанасының жалпы өлшемінің өзгеру жылдамдығы өте аз болды, нәтижесінде вольфрам нысанасының тығыздығының жоғарылауы үшін кеңістік шектеулі болды.Агломерлеу процесінде өсірілген вольфрам дәндері бос орындарға толтырылады, нәтижесінде бөлшектердің өлшемі кішірек нысанның тығыздығы жоғары болады.
2、 Ұстау уақытының әсері
Бірдей агломерациялық температурада вольфрам нысанасының жинақылығы агломерацияны ұстау уақытының ұзаруымен жақсарады.Ұстау уақытының ұзаруымен вольфрам дәнінің мөлшері ұлғаяды, ал ұстау уақытының ұзаруымен дән мөлшерінің өсу уақыты бірте-бірте баяулайды, бұл ұстау уақытын ұлғайту да өнімділікті жақсартуға мүмкіндік береді. вольфрам нысанасы.
3、 Жылжытудың мақсатты сипаттарға әсері
Вольфрамның мақсатты материалының тығыздығын жақсарту және вольфрамның мақсатты материалының өңдеу құрылымын алу үшін вольфрамның мақсатты материалының орташа температуралық илемдеуін қайта кристалдану температурасынан төмен орындау керек.Егер мақсатты дайындаманың илемдеу температурасы жоғары болса, мақсатты дайындаманың талшық құрылымы дөрекі болады және керісінше.Жылы прокат жылдамдығы 95% -дан астамға жеткенде.Әртүрлі бастапқы дәндер немесе әртүрлі илемдеу температурасынан туындаған талшық құрылымындағы айырмашылық жойылса да, нысананың ішкі құрылымы салыстырмалы түрде біркелкі талшық құрылымын құрайды, сондықтан жылы илемдеудің өңдеу жылдамдығы неғұрлым жоғары болса, мақсаттың өнімділігі соғұрлым жақсы болады.
Жіберу уақыты: 15 ақпан 2023 ж