Енді көбірек пайдаланушылар мақсаттар мен түрлерін түсінедіоның қолданбалары, бірақ оның бөлімдері өте анық болмауы мүмкін.Енді алайықRSM инженері сіздермен бөлісемізкейбір индукция магнетронды шашырату нысандарының.
Шашырату нысанасы: металды шашырату нысаны, қорытпаны шашырату жабыны нысанасы, керамикалық бүрку нысанасы, боридті керамикалық бүрку нысанасы, карбидті керамикалық бүрку нысанасы, фторидті керамикалық бүрку нысанасы, нитридті керамикалық бүрку нысанасы, керамикалық оксидті шашырату нысанасы, керамикалық қышқылды шашырату нысанасы, нысана, сульфидті керамикалық шашырату нысанасы, теллуридті керамикалық шашырату нысанасы, басқа керамикалық нысандар, хром қосылған кремний оксиді керамикалық нысана (CR SiO), индий фосфиді нысанасы (INP), қорғасын арсениді нысанасы (pbas), индий арсениді нысанасы (InAs).
Магнетронды шашырату әдетте екі түрге бөлінеді: тұрақты токтың шашырауы және РЖ шашыратқышы.Тұрақты токпен тозаңдату жабдығының жұмыс істеу принципі қарапайым, оның жылдамдығы металды шашыратқанда да жылдам.РЖ шашырату кеңінен қолданылады.Өткізгіш деректерді шашыратумен қатар, ол өткізбейтін деректерді де тарата алады.Шашырату нысанасын оксидтер, нитридтер және карбидтер сияқты құрама деректерді дайындау үшін реактивті шашырату үшін де пайдалануға болады.РЖ жиілігі жоғарыласа, ол микротолқынды плазманың шашырауына айналады.Қазіргі уақытта электронды циклотронды резонансты (ECR) микротолқынды плазмалық шашырау жиі қолданылады.
Хабарлама уақыты: 26 мамыр 2022 ж